Teoretyczna ocena wspolczynnika odbicia w cienkich warstwach AL/SiO2

Poprawa wlasciwosci optycznych materialu, takich jak reflektancja, wiaze sie ze zlozonym poszukiwaniem optymalnych parametrow eksperymentalnych w procesie ich otrzymywania.

Wykorzystanie oprogramowania obliczeniowego do symulacji procesow wzrostu cienkich warstw stanowi istotna korzysc ze wzgledu na brak zaleznosci od rzeczywistego systemu, jak rowniez mozliwosc zbadania szerszego zakresu wystepujacych wielkosci fizycznych.

Ponadto, istnieje potrzeba w przemysle motoryzacyjnym, Varroc Lighting Systems(c) otrzymal zadanie poprawy wspolczynnika odbicia reflektorow aluminiowych, wiec przeprowadzilismy rozwoj, przy uzyciu oprogramowania NASCAM(R), ktore wykorzystuje metode kinetyczna Monte Carlo do opracowania modelu ukladu fizycznego, ktory ma byc badany w skali nanometrycznej, pozwoli nam to na analize wplywu roznych wielkosci, ktore moga wplywac na wspolczynnik odbicia materialu.